CMSD2000 納米氧化鋯研磨分散機
參考價 | ¥ 108900 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 上海依肯機械設備有限公司
- 品牌
- 型號 CMSD2000
- 所在地 上海市
- 廠商性質 其他
- 更新時間 2018/11/15 9:17:16
- 訪問次數 272
參考價 | ¥ 108900 |
訂貨量 | ≥1 |
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納米氧化鋯研磨分散機,高速研磨分散機立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。
納米氧化鋯研磨分散機,高速研磨分散機,高剪切研磨分散機,抗菌除臭氧化鋯塑料研磨分散機,納米氧化鋅研磨分散機
納米氧化鋯具有抗熱震性強、耐高溫、化學穩定性好、材料復合性突出等特點。將納米氧化鋯與其他材料(Al?O3 、SiO? )復合,可以*地提高材料的性能參數,提高其斷裂韌性、抗彎強度等。因此,納米二氧化鋯不僅應用于結構陶瓷和功能陶瓷領域,也應用于提高金屬材料的表面特性(熱傳導性、抗熱震性、抗高溫氧化性等)。利用納米二氧化鋯摻雜不同元素的導電特性,在高性能固體電池中用于電極制造。
納米氧化鋯粉體燒結成的陶瓷由于其相變增韌性的良好性能已成為主要的結構陶瓷之一;在納米復合材料研究中,將納米二氧化鋯作為彌散相對基體進行增強韌化,已取得顯著的效果;穩定納米氧化鋯作為一種理想的電解質已被廣泛地應用于固體氧化物染料電池中。
納米氧化鋯粉體在國防、電子、高溫結構和功能陶瓷,尤其是在表面涂層等高科技領域有重要應用價值。
1, 納米氧化鋯可以用在高強度、高韌性耐磨制品:磨機內襯、拉絲模、熱擠壓模、噴嘴、閥門、滾珠、泵零件、多種滑動部件等。
2,功能陶瓷,結構陶瓷:電子陶瓷、生物陶瓷
3. 壓電元件.氧敏電阻.大容量電容器;
4. 人造寶石,研磨材料. 功能涂層材料:加入涂料中有防腐、抗菌作用,提高耐磨、耐火效果。
5. 納米氧化鋯還可以耐火材料:電子陶瓷燒支承墊板,熔化玻璃、冶金金屬用耐火材料;
在高技術領域的應用日益擴大。
6,經過硅烷修飾的納米ZrO?顆粒,在其添加量為3.0%時,可以顯著地提高納米ZrO?/PMMA復合材料的撓曲強度。
上海依肯研發的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。
納米氧化鋯研磨分散機,高速研磨分散機,高剪切研磨分散機,抗菌除臭氧化鋯塑料研磨分散機,納米氧化鋅研磨分散機
CMD2000研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
研磨分散機的特點:
更穩定 采用優化設計理念,將先x的技術與創x的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國x先x的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
納米氧化鋯研磨分散機,高速研磨分散機,高剪切研磨分散機,抗菌除臭氧化鋯塑料研磨分散機,納米氧化鋅研磨分散機
2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
設備核心參數:
設備等級:化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
CMD2000系列研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%
納米氧化鋯研磨分散機,高速研磨分散機,高剪切研磨分散機,抗菌除臭氧化鋯塑料研磨分散機,納米氧化鋅研磨分散機
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