CMD2000 納米級導電高分子研磨分散機
參考價 | ¥ 108900 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 上海依肯機械設備有限公司
- 品牌
- 型號 CMD2000
- 所在地 上海市
- 廠商性質 其他
- 更新時間 2018/11/15 9:16:12
- 訪問次數 318
參考價 | ¥ 108900 |
訂貨量 | ≥1 |
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納米級導電高分子研磨分散機,14000轉研磨分散機,研磨分散一體機采用優化設計理念,將先x的技術與創x的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題,安裝與更換方便快捷.
納米級導電高分子研磨分散機,14000轉研磨分散機,研磨分散一體機,管線式研磨分散機,不銹鋼研磨分散機
導電高分子*不同于由金屬或碳粉末與高分子共混而制成的導電塑糕因此,導電高分子的可分子設計結構特征為除了具有高分子結構外,還含有由“摻雜”而引入的一價對陰離子(p-型摻雜)或對陽離子(n-型摻雜)所以,通常導電高分子的結構特征是由有高分子鏈結構和與鏈非鍵合的一價陰離子或陽離子共同組成。因此,導電高分子不僅具有由于摻雜而帶來的金屬(高電導率)和半導體(p-和n-型)的特性之外,還具有高分子的可分子設計結構多樣化,可加工和比重輕的特點。為此,從廣義的角度來看,導電高分子可歸為功能高分子的范疇。
導電高分子的摻雜實質是氧化還原反應,而且氧化還原過程*可巡在摻雜脫摻雜的過程中伴隨著*可逆的顏色變化。因此,導電高分子這一*的性能可能實現電致變色或光致變色這不僅在信息存貯、顯示上有應用前景,而且也可用于軍事目標的偽裝和隱身技術上。
納米級導電高分子研磨分散機,14000轉研磨分散機,研磨分散一體機,管線式研磨分散機,不銹鋼研磨分散機
導電高分子不僅可以摻雜,而且還可以脫摻雜并且摻雜脫摻雜的過程*可巡這是導電高分子*的性能之汽如果*可逆的摻雜脫摻雜特性與高的室溫電導率相結合,則導電高分子可成為二次電池的理想電極料,從而可能實現全塑固體電字也另外,可逆的摻雜脫摻雜的性能若與導電高分子的可吸收雷達波的特性相結合,則導電高分子又是口前快速切換的隱身技術的首x材料實驗發現導電高分子與大氣某些介質作用其室溫電導率會發生明顯的變化,若除去這些介質又會自動恢復到原狀這種變化的實質是摻雜域脫摻雜過程,并且其摻雜脫摻雜*可逆利用這一特性導電高分子可實現高選擇性、靈敏度高和重復性好的氣體或生物傳感器。
盡管導電高聚物研究僅有20余年的歷史,但無論在材料的設計和合成,摻雜和導電機理,結構與性能,加工性和穩定性以及在技術上的應用探索等方而均已取得長足的進展,并正向實用化的方向邁逃但是,在基礎理論研究方面,導電高聚物而臨著“合成金屬”、分子導線和分子器件的挑戰;在應用基礎和技術應用方而,導電高聚物也面臨著材料功能化,納米化和實用化的挑戰。若這些挑戰所帶來的發展機遇與導電高聚物本身的強大的生命力相結合,堅信這必將成為21世紀材料科學的研究前沿
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
納米級導電高分子研磨分散機,14000轉研磨分散機,研磨分散一體機,管線式研磨分散機,不銹鋼研磨分散機
研磨分散機的特點:
更穩定 采用優化設計理念,將先x的技術與創x的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國x先x的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
CMD2000研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。
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