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CMD2000 新型二維半導體材料研磨分散機

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新型二維半導體材料研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行

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黑磷是黑色有金屬光澤的晶體,是用白磷在很高壓強和較高溫度下轉化而形成的。 黑磷在磷的同素異形體中反應活性很弱的,它在空氣中不會點燃。

 

黑磷烯納米分散液的制備方法:

 

將黑磷塊體浸入有機溶劑中,并進行攪拌,其中,所述攪拌的轉速為8000-14000轉/分,所述攪拌的時間為20-30h;再將上述攪拌后得到的溶液進行低速離心,收集上清液,并對所述上清液進行高速離心,去除上清液,收集固體沉淀,所述固體沉淀即大尺寸黑磷片。該方法操作簡單、條件溫和、價格低廉、重現性好、產量高,制備過程無需震蕩、超聲,易實現低成本產業化生產。所述大尺寸黑磷片的橫向尺寸為5-25m,可應用于光電器件或傳感器制備等領域。

針對黑鱗未來市場的應用前景,上海IKN/依肯公司結合德國核心技術研發出了新型黑磷納米片分散液制備機械——IKN黑磷納米片分散液研磨分散機,該設備是由膠體磨和分散機組合而成的設備,轉速高達14000rpm,擁有強大的剪切力。

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IKN黑磷烯納米分散液分散機結構:

 

IKN分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的3級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。


 

IKN研磨分散機選型表:

 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

 

 

 

工藝應用:

食品纖維類物料的濕法超細破碎與均質  可溶物(或互溶物)固體和液體加速溶解

動物和植物組織的超細破碎及漿化加工  不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散

不相溶的固-液相懸浮物超細混合分散   納米材料團聚物的強力解聚與超細分散

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