LOAD LOCK預真空進樣室（可選）
前開門濺射腔體
冷凝泵和干泵
3個磁控濺射源
直流、射頻或脈沖電源
朝上或朝下濺射
zui大6”基片
基片旋轉
基片偏壓（可選）
基片加熱1000度(可選)
多達四路工藝氣體
PID濺射壓力控制
系統手動或自動控制
良好的薄膜均勻性和重復性
可沉積金屬、半導體和絕緣材料
可沉積多層膜及合金薄膜

• LOAD LOCK預真空進樣室（可選）
• 前開門濺射腔體
• 冷凝泵和干泵
• 3個磁控濺射源
• 直流、射頻或脈沖電源
• 朝上或朝下濺射
• zui大6”基片
• 基片旋轉
• 基片偏壓（可選）
• 基片加熱1000度（可選）
• 多達四路工藝氣體
• PID濺射壓力控制
• 系統手動或自動控制
• 良好的薄膜均勻性和重復性
• 可沉積金屬、半導體和絕緣材料
• 可沉積多層膜及合金薄膜   
  

德儀科技有限公司專業進口美國磁控濺射、電子束蒸發、熱蒸發和脈沖激光真空薄膜沉積設備，以及磁控濺射源/電源、電子束蒸發源、濺射靶材和蒸發材料等。十幾年來，憑著的品質，*的技術和周到的技術服務，德儀公司的產品為中國的高校、科研院所及企業的薄膜沉積工作提供了有力的支持。

                 Sputter 磁控濺射薄膜沉積系統
                  E-Beam 電子束蒸發薄膜沉積系統 
                  Thermal 熱阻蒸發薄膜沉積系統
                  PLD 脈沖激光鍍膜系統 
                  Sputter Sources 磁控濺射陰極
                  DC/RF Power Supply 直流/射頻電源
                  E-Beam Sources 電子束蒸發源 
                  Thermal EVP Sources 熱蒸發源
                  Deposition Materials 濺射靶材和蒸發鍍膜材料
                  Sample Manipulator 樣品臺 
                  Feedthroughs 電子穿導器件
                  Vacuum Valves 真空閥門 
                  Vacuum Components 真空配件 
  
                  的品質、優質的服務是我們的宗旨！