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Qx-mir-gl 刻線衍射光柵,MIR反射式

參考價 88
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“刻線衍射光柵,MIR反射式”參數說明
型號:Qx-mir-gl規格:12.5 mm X 25.0 mm X
商標:一博包裝:硬塑
設計波長:3.1刻線數:800

詳細信息 在線詢價

刻線衍射光柵,MIR反射式”參數說明

型號:Qx-mir-gl規格:12.5 mm X 25.0 mm X
商標:一博包裝:硬塑
設計波長:3.1刻線數:800

刻線衍射光柵,MIR反射式”詳細介紹

刻線衍射光柵,MIR反射式基本介紹

QXKJ提供多種優化中紅外區域峰值偏振效率的刻劃衍射光柵。我們提供不同閃耀角的光柵,適合多種應用。欲了解不同光柵類型的差異,

刻線衍射光柵,MIR反射式性能特點

特性

· 設計波長:3.1 µm、3.5 µm、10.6 µm

· 設計波長處的偏振效率:80%到95%

· 低重影:小于主反射的0.5%

· 反射鋁膜

· Pyrex基底,75到450刻線/mm

· 使用刻線的基底材料生產

· 損傷閾值:

o 連續波激光:250 W/cm2

o 脈沖激光器:3.5 J/cm2 (200 ns脈沖)

刻線衍射光柵,MIR反射式技術參數

反射式衍射光柵,設計波長3.1 µm

Dimensions

Design

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

3.1 µm

450

32°

1.6 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

反射式衍射光柵,設計波長3.5 µm

Dimensions

Design

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

3.5 µm

300

26.5°

2.86 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

反射式衍射光柵,設計波長10.6 µm

Dimensions

Design

Wavelength

Grooves/mm

Blaze Angle

Dispersion

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

10.6 µm

75

21°

12.3 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

100

27°

8.5 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm

150

35°

4.2 nm/mrad

25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm

刻線衍射光柵,MIR反射式使用說明

注意

光柵很容易被潮濕、指紋、氣溶膠或任意摩擦材料的輕微接觸而損傷。光柵只能在必要時才拿取,而且只能通過邊緣夾持。應佩戴橡膠手套或類似的防護套,以防止手指上的油污接觸光柵表面。清潔時只能使用凈化的干燥空氣或氮氣吹掃光柵,其它任何操作都是不允許的。溶劑很可能會損傷光柵表面。

刻線衍射光柵,MIR反射式采購須知

這些光柵用于在常見分子激光波長下獲得峰值偏振效率,因此與標準的刻劃衍射光柵(紫外、可見和近紅外刻劃光柵)不同。對于這些光柵,凹槽閃耀角不等同于Littrow配置角,后者優化了光柵效率,用于非偏振光。因此,Littrow配置的反射光柵的標準公式也不再適用。

請注意,這些光柵的反射鋁膜是裸露的,而且沒有保護鍍膜。但是可以定制MgF2或金膜來保護光柵的鋁膜表面。金膜在紅外波段的性能更好,而MgF2膜提供佳保護性。

 

 

 

 

 

 

 

 


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