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芬蘭PICOSUN原子層沉積系統

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芬蘭PICOSUN公司是ALD技術發明人TuomoSuntola創立的,與Picosun專家隊伍被稱為ALD的

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芬蘭PICOSUN公司是ALD技術發明人Tuomo Suntola創立的,與Picosun專家隊伍被稱為ALD的。

Suntola于1974年發明ALD技術,因此獲得半導體行業European SEMI 2004獎。

PICOSUN公司憑借其杰出的生產型與科研型產品,于2022年6月加入美國應用材料公司。


PICOSUN產品分為科研型與生產型。

科研型產品有:

標準型PICOSUN™ R-200 Standard,只有熱法原子層沉積系統

高級型PICOSUN™ R-200 Advanced,有熱法原子層沉積系統等離子體增強原子層沉積系統

高級型ALD可以添加前沿的微波等離子體輔助增強模塊Microwave Plasma, 這種微波等離子體增強原子層沉積系統在顆粒、薄膜致密性表現更好,同時有可能沉積具有挑戰性的一些氮化物薄膜,如氮化硅等。







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