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NTRON Microx-223氧分析儀在監控半導體立式退火爐氧含量時，可以遵循以下步驟和要點：
1.安裝與校準
安裝位置：將Microx-223氧分析儀安裝在半導體立式退火爐的氣體出口或專門的取樣點，確保傳感器能夠直接、準確地接觸到爐內處理過程中的氣體。
校準：在安裝之前，對氧分析儀進行的校準，包括零點校準和量程校準。這可以確保測量結果的準確性和可靠性。
2.報警與監控閾值設置
設置報警閾值：在控制系統中，為Microx-223氧分析儀設置報警閾值。當氧含量超過或低于這些閾值時，系統應能夠觸發警報，以通知操作人員及時采取措施。
監控閾值：設置監控閾值以便操作人員和質量控制團隊可以持續監控氧含量，并據此調整工藝參數或進行故障排除。
3.技術參數與應用特點
測量范圍：Microx-223氧分析儀的測量范圍為1ppm到25%的氧氣含量，滿足半導體工藝對氧含量監測的精度要求。
傳感器技術：采用快速響應的LT氧化鋯傳感器，確保了對氧含量變化的快速準確感知。
環境適應性：專為嚴苛環境應用而開發，具有可靠的氧化鋯傳感器技術和快速響應的特性，使其能夠在半導體立式退火爐等復雜環境中穩定運行。
4.維護與校準
定期維護：根據制造商的建議和半導體工藝的要求，定期對Microx-223氧分析儀進行維護和檢查，確保其長期穩定運行。
校準頻率：根據使用情況定期對氧分析儀進行校準，以保證測量結果的準確性。
產品特點
● 測量范圍：1ppm-25% O2
● 響應快（T90響應時間<10>
● 導軌式安裝
● LCD 顯示和 4 個多功能按鈕
● 4-20mA 信號輸出
● RS-232 通訊協議 （可選485通訊）
● 24VDC 供電
● 3 組繼電器報警
● M18x1.5 螺紋過程接口（可選KF40法蘭）
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