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MRC603真空鍍膜機
MRC603采用*的立式結構設計及特殊結構的陰極,可實現高濺射,膜厚均勻性和高靶材有效使用率,從研發應用到大批量生產,可沉積介質膜、金屬膜等,主要用于集成電路制造、平板顯示器、光刻掩膜版、通訊網絡、化合物半導體器件、射頻功率器件和光電子器件等。
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