Advance Riko-經濟型RTP快速退火爐 RTP-6采用拋物線形的黃金反射面,可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統可進行快速的熱處理,適合熱處理工藝的研究與開發。可用于半導體工藝中硅化物的形成以及半導體化合物的過程退火。
Advance Riko-經濟型RTP快速退火爐 RTP-6升溫速率可達80℃/s。
Advance Riko-經濟型RTP快速退火爐 RTP-6采用拋物線形的黃金反射面,可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統可進行快速的熱處理,適合熱處理工藝的研究與開發。可用于半導體工藝中硅化物的形成以及半導體化合物的過程退火。
應用:
1、離子注入后的活化退火
2、沉積氧化膜的退火
3、歐姆電極合金化
4、PZT,SBT和其它鐵電薄膜的結晶退火
5、硅化物及自對準硅化物的生成
6、發光元件,半導體激光基板的熱處理
7、超淺結的生成
8、鐵電電容器沉積
9、柵氧化膜的生
特點:
l 快速熱處理
l 腔體采用水冷,可進行快速降溫
l 真空置換氣氛后,可采用流動氣氛進行熱處理
l 溫度程序設置和外部信號輸入可以通過腦輕松控制
l 加熱過程的溫度數據也可以顯示在電腦上
l 石英保護板(可選)可以安裝在腔室內以防止污染
l 配備了各種安全措施
l 九個獨立的加熱區可實現不同尺寸樣品均勻的溫度控制
組成:
1、紅外金面反射爐
2、加熱腔
3、可編程溫控器
4、9個獨立的加熱區
5、跨度變換單元
6、氣體管路系統
7、熱氣排出系統
8、爐體框架,開關板
9、高溫計(可選)
10、水冷機(可選)
11、真空泵(可選)
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