基質輔助脈沖激光沉積系統標準的激光束射向靶材入射角度：60°；主腔體本底真空：P < 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.

       基質輔助脈沖激光沉積系統系統技術指標：
 

　　大襯底尺寸
 

　　One 2-inch diameter substrate or multiple small samples. Larger substrates and custom substrate holders are available on request.
 

　　大襯底溫度：300°C typical, but other heaters are available.
 

　　MAPLE靶材溫度： -194°C (80 K)
 

　　壓力操作范圍：Base pressure depends strongly on polymer/solvent mix and the solvent vapor pressure
 

　　MAPLE靶材尺寸：Single 1.5” diameter target standard, larger targets available on request.
 

　　靶材到襯底(Throw) 距離：Variable from 2.5 to 4 inches
 

　　光柵路徑長度：Across complete MAPLE target
 

　　基質輔助脈沖激光沉積系統標準的激光束射向靶材入射角度：60°
 

　　主腔體本底真空：P < 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.
 

　　真空腔體：Box style chamber with easy substrate / target changes.
 

　　激光波長：2.9 microns (Er:YAG laser), other lasers/wavelengths available on request.
 

　　科睿設備有限公司是一家專門從事材料生長、材料分析、納米科技、半導體測試設備銷售、服務及技術咨詢的高科技公司。我司代理了多家*水平的分析儀器和設備，產品包括：
 

　　*光刻機(Mask Aligner)、勻膠機(Spin Coater)、深能級瞬態譜儀(DLTS)等；
 

　　*電子束蒸發系統(E-Beam Evaporation)、磁控濺射系統、脈沖激光沉積系統(PLD)、原子層沉積系統、快速退火爐(RTP)、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、反應離子蝕刻系統(RIE)；
 

　　*掃描開爾文探針系統(Kelvin Probe)、飛行時間二次離子質譜(TOF-SIMS)；
 

　　*氣溶膠發生器、氣溶膠粒徑譜儀、氣溶膠稀釋器、濾料測試系統、煙霧發生器、空氣示蹤器等。
 

　　科睿設備有限公司扎扎實實的將代理的產品真誠的奉獻給中國的科研工作者，我們以能為廣大中國科研工作者提供優質服務為榮。而為客戶提供整體的解決方案，是科睿技術發展有限公司一貫堅持的宗旨。
 

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