PhenomLE飛納臺式場發射掃描電鏡PhenomLE——性能*的飛納臺式場發射掃描電鏡秉承飛納臺式電鏡系列全自動操作、快速成像、不噴金觀看絕緣體、防震、性能穩定的特點，經過精心的設計，臺式掃描電鏡制造商荷蘭Phenom-World公司推出了臺式場發射掃描電鏡PhenomLE，將臺式電鏡的分辨率提升至優于2.5nm@15kV

Phenom LE飛納臺式場發射掃描電鏡

Phenom LE ——性能*的飛納臺式場發射掃描電鏡

秉承飛納臺式電鏡系列全自動操作、快速成像、不噴金觀看絕緣體、防震、性能穩定的特點，經過精心的設計，臺式掃描電鏡制造商荷蘭 Phenom-World 公司推出了臺式場發射掃描電鏡 Phenom LE，將臺式電鏡的分辨率提升至優于 2.5nm@15kV。

Phenom LE ——電鏡能譜一體化設計

Phenom LE 飛納臺式場發射電鏡采用熱場發射電子源，信噪比高，使用壽命長，保證長期穩定的性能。飛納臺式場發射掃描電鏡能譜一體機標配背散射電子成像、二次電子電子成像和能譜分析功能，可對各種樣品進行高分辨成像及元素分析。

Phenom LE飛納臺式場發射掃描電鏡產品參數

光學顯微鏡：放大 20-135 倍

電子顯微鏡：200-500,000 倍

探測器：背散射電子探測器；二次電子探測器；能譜探測器

電子源：肖特基場發射電子源

分辨率：優于 2.5 nm @ 15kV

放置環境：采用專業防震設計，可擺放于普通實驗室或辦公室、廠房

加速電壓：2kV-15kV 連續可調

抽真空時間：小于 15 秒

探測元素范圍：B（5）- Am（95）號元素

能譜探測器：硅漂移探測器（SDD）；電制冷 (無液氮)