托托科技 科研版-Academic 無掩模光刻機
高靈活性、高精度、無掩模的優勢，適用于科學研究
6 英寸加工幅面
最小特征尺寸可達0 . 4  μm
步進式光刻/掃描式光刻

托托科技 科研版-Academic 無掩模光刻機是托托科技專為科學研究領域打造的一款光刻設備。它集高靈活性、高精度和無掩模等優勢于一身，能夠滿足科研工作者在二維材料、微流控、MEMS、微透鏡、光學衍射器件、浮雕結構、超表面、量子光學以及掩模版制造等多個領域的多樣化需求，為科學研究提供了強大的技術支持。

核心優勢

（一）無掩模優勢

無需傳統掩模版，直接在感興趣的二維材料上繪制電極圖案，實現小批量、定制化掩模版制備，減少對外部依賴，縮短設計迭代周期。高速光刻能力（可達 1200 mm2/min）顯著提高科研效率。

（二）高靈活性

可根據科研需求靈活調整光刻圖案和參數，適應不同材料和復雜結構的加工。無論是二維材料上的電極圖案繪制，還是微流控芯片中高深寬比結構的制作，都能輕松應對。

（三）高精度

最小特征尺寸可達 0.4 μm，能夠滿足微納米尺度結構的加工要求。在微透鏡、光學衍射器件等對精度要求高的領域，也能精確控制表面形貌和光刻強度，制造出高度精細的微結構。

產品應用

MEMS器件

S型通道微流控芯片

多級衍射透鏡

金字塔

技術參數

加工幅面： 6 英寸，滿足大多數科研實驗的需求。

最小特征尺寸： 0.4 μm，達到微納加工高水平。

光刻方式： 步進式光刻/掃描式光刻，提供多種選擇，適應不同的工藝需求。

托托科技 科研版-Academic 無掩模光刻機以其性能和廣泛的應用領域，為科研工作者提供了一個強大的實驗平臺。它將助力科研團隊在多個前沿領域取得突破性的研究成果，推動相關技術的創新和發展。