除了可以加工晶圓級尺寸的樣品，托托科技 自主研發 無掩模光刻機還能夠處理更大尺寸的樣品。例如設備可以支持超大幅面（2米）的微納加工，以滿足不同研究和工業需求。

托托科技 自主研發 無掩模光刻機：

科研版-Academic 無掩模光刻機

高靈活性、高精度、無掩模的優勢，適用于科學研究

6 英寸加工幅面

最小特征尺寸可達0 . 4  μm

步進式光刻/掃描式光刻

高速版-Speed 無掩模光刻機

更快的加工速度、更強的設備性能，適用于小批量生產制造

8 英寸加工幅面

最小特征尺寸可達0.5 μm

掃描式光刻

教育版-Young 無掩模光刻機

桌面型無掩模光刻機，靈活小巧，非常適用于微電子、集成電路等加工制造的實驗課程

2英寸加工幅面

最小特征尺寸可達1 . 5 μm

*以上所有產品的規格參數取決于個別工藝條件，并可能根據設備配置而有所不同，寫入速度取決于曝光面積。

更多解決方案

材料器件制備一站式解決方案

如果您的研究涉及厭水、厭氧性質的材料（如磁性氧化物、Micro-LED、OLED等）又需要進行光刻相關的實驗，我們可以為您提供手套箱版本的光刻機解決方案。

特殊襯底光刻

光刻不僅適用于常規硅基襯底，還可以在各種特殊襯底上進行，例如鉆石、光纖、甚至小的發動機葉片（曲面）等，為各個應用領域提供解決方案。

超大幅面光刻

除了可以加工晶圓級尺寸的樣品，托托科技 自主研發 無掩模光刻機還能夠處理更大尺寸的樣品。例如設備可以支持超大幅面（2米）的微納加工，以滿足不同研究和工業需求。

托托科技是一家快速成長的技術驅動型企業，專注于精密光學儀器的研發制造。公司目前擁有無掩模版光刻設備、磁學產品、多模態光電顯微鏡、超高精度3D光刻產品、3D顯微鏡五個核心產品線，已經形成了集設計、研發、制造、銷售及客戶咨詢服務為一體的高科技企業，致力于給客戶提供技術支持，以技術和細致設計造就品質，以耐心服務和企業擔當贏得良好口碑。