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【儀器網 行業應用】X射線光電子能譜儀是一種表面分析技術，主要用來表征材料表面元素及其化學狀態，常與俄歇電子能譜技術配合使用。由于X射線光電子能譜技術可以比俄歇電子能譜技術更準確地測量原子的內層電子束縛能及其化學位移，所以不僅能為化學研究提供分子結構和原子價態方面的信息，而且還能為電子材料研究提供各種化合物的元素組成和含量、化學狀態、分子結構以及化學鍵方面的信息。
分析特點：
1、可以分析除H和He以外的所有元素，對所有元素的靈敏度具有相同的數量級。
2、相鄰元素的同種能級的譜線相隔較遠，相互干擾較少，元素定性的標識性強。
3、能夠觀測化學位移。化學位移同原子氧化態、原子電荷和官能團有關。化學位移信息是XPS用作結構分析和化學鍵研究的基礎。
4、可作定量分析。既可測定元素的相對濃度，又可測定相同元素的不同氧化態的相對濃度。
5、是一種高靈敏超微量表面分析技術。樣品分析的深度約2 nm，信號來自表面幾個原子層，樣品量可少至10-8g，靈敏度可達10-18g。
應用領域：
X射線光電子能譜儀的應用領域十分廣泛，不僅可以對固體樣品的元素成分進行定性定量或半定量及價態分析，而且還可以對樣品表面的組成組分及其化學狀態進行分析，廣泛應用于元素分析、多相研究、化合物結構鑒定及富集法微量元素分析等領域。
1、樣品表面1-12nm的元素和元素質量；
2、檢測存在于樣品表面的雜質；
3、含過量表面雜質的自由材料的實驗式；
4、樣品中一種或多種元素的化學狀態；
5、一個或多個電子態的鍵能；
6、不同材料表面12 nm范圍內一層或多層的厚度；
7、電子態密度測量。
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