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簡介：日立高新磁控濺射器（HitachiIonSputter)MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器...

簡介：日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMillingSystemIM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMilli...

簡介：日立ArBlade5000離子研磨系統能夠實現高產量，并制備廣域橫截面樣品。離子研磨系統使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預處理系統可以用于電子和材料等各個領域的研發...

簡介：AFM5100N除了激光檢測方式之外，全新的「自檢測懸臂」，在保證高分辨表面形貌觀察的同時，大大簡化了AFM懸臂操作。·特點1.簡便的懸臂安裝通常的懸臂是非常渺小而且很難操作，內部裝有傳感器的「自...

簡介：AFM5300E是一款環境型原子力顯微鏡，它的環境控制單元可以使樣品在大氣中、真空中、溶液中等環境中進行測量。AFM5300E還具有高低溫控制功能，可以檢測溫度對樣品表面形貌和物理特性的影響。·特...

簡介：標準配備改良過的測量參數自動調整功能，以及簡單明了的圖形用戶界面。因此，即使是剛剛接觸SPM的人，或者測量某種全新的樣品時，也能取得具有較高再現性的數據。·特點1.RealTune?II的測量參數...

簡介：標配日立生產的照射系統球差校正器（附自動校正功能）搭載具有高輝度、高穩定性的冷場FE電子槍鏡體和電源等的高穩定性使機體的性能大幅度提升觀察像差校正SEM/STEM圖像的同時觀察原子分辨率SE圖像采...

簡介：1)支持超大/超重樣品測試可搭載的樣品尺寸：“SU3800”標配可搭載直徑200mm樣品的樣品倉，可應對高度為80mm、重量為2kg的樣品。“SU3900”作為日立的大型掃描電鏡，標配可搭載直徑3...

簡介：AFM5500M是操作性和測量精度大幅提高，配備4英寸自動馬達臺的全自動型原子力顯微鏡。設備在懸臂更換，激光對中，測試參數設置等環節上提供全自動操作平臺。新開發的高精度掃描器和低噪音3軸感應器使測...

簡介：臺式掃描電子顯微鏡(SEM)全新升級。我們以“更高畫質、更易于使用、更易于觀察”為理念，開發出TM4000系列。在此基礎上，我們又推出功能更為多樣的TM4000Ⅱ系列。為您提供全新的觀察和分析應用...